本文轉(zhuǎn)自：財聯(lián)社
公司秉承大國工匠精神，腳踏實地，精益求精。自成立以來，與業(yè)內(nèi)知名專家和科研院校保持高度合作，為公司的科技創(chuàng)新和技術(shù)發(fā)展奠定了堅實的基礎(chǔ)?？拐鹬Ъ?、管廊支架從創(chuàng)立自主品牌，到開發(fā)并擁有多項發(fā)明專利；從通過ISO9001:2000質(zhì)量系統(tǒng)認(rèn)證，到獲得機(jī)電設(shè)備安裝工程專業(yè)承包三級資質(zhì)。公司的發(fā)展一步一個腳印，一年一級臺階。一路砥礪奮進(jìn)，踏歌而行。
財聯(lián)社資訊患上悉，據(jù)媒體報道，韓國半導(dǎo)體光刻膠的供需進(jìn)入緊迫狀態(tài)，庫存量降到了馬奇諾防線——3個月水平如下。這是因為以成熟工藝為主的需要劇增，可是提供卻不跟上。同時這也是未能解脫依附日本提供商的服從。
據(jù)悉，提供難題加劇的產(chǎn)物主若是用于成熟工藝的光刻膠，包羅從I-line到氟化氪（KrF）。盡管不像日本的進(jìn)口限度工具——用于極紫外（EUV）等尖端工藝的光刻膠，但其市場占有率**大，包羅用于求過于供的8英寸晶圓產(chǎn)物曝光制程，以及3D NAND 閃存（KrF）。在所有的晶圓制作資料中，半導(dǎo)體光刻膠憑仗其重大且精準(zhǔn)的成份組成要求而具備*高的價格含量。半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)物由低端到高端可分為g線、i線、KrF、ArF以及EUV光刻膠，*高真?zhèn)€EUV光刻膠根基被日本以及美國企業(yè)所操作。牢靠證券合成指出，當(dāng)初國內(nèi)半導(dǎo)體光刻膠主要以低端產(chǎn)物為主，技術(shù)水平與外洋差距甚遠(yuǎn)。但在多項**政策反對于以及大基金注資的布景下，日后外鄉(xiāng)替換將成為臨時趨勢。當(dāng)初已經(jīng)有少數(shù)企業(yè)已經(jīng)開始鋒铓畢露，實現(xiàn)從0到1的突破。
A股上市公司中，華懋科技旗下徐州博康近期收到某國內(nèi)干流存儲芯片廠商的半導(dǎo)體光刻膠洽購定單，此前該產(chǎn)物型號全副依附于外洋進(jìn)口。容大感光具備1050噸呈現(xiàn)用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及配套化學(xué)品的消耗能耐，將新增1.53萬噸呈現(xiàn)用光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及配套化學(xué)品產(chǎn)能。南大光電已經(jīng)建成兩條ArF光刻膠消耗線，合計產(chǎn)能25噸，當(dāng)初ArF光刻膠有多款產(chǎn)物正在多家客戶同時妨礙認(rèn)證。
（作者：147小編）
